スリットコーティング(Slit Coating)
スリットコーティング(Slit Coating)
スリットコーティング(Slit Coating)は、薄膜形成技術の一つで、液体材料をスリット状のノズルから基板に供給し、均一な薄膜を形成する方法です。この技術は、特に大面積の基板や連続プロセスに適しています。
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スピンコーティング(Spin coating)
スピンコーティング(Spin Coating)は、基板上に均一な薄膜を形成するための一般的な技術です。この方法は、半導体製造や薄膜デバイスの作製に広く使用されています。
現在の半導体製造(フォトリソグラフィ工程)における...
フォトリソグラフィ(Photolithography)
フォトリソグラフィ(Photolithography)は、半導体デバイスや微細構造を製造するための光を使った微細加工技術です。この技術は、光を使用して特定のパターンをフォトレジスト上に転写し、その後のエッチングやドーピングプロセス...
フォトレジスト(Photoresist)
フォトレジストとは、半導体製造やプリント基板製造に使用される感光性の材料のことです。光に反応して化学的な変化を起こし、特定のパターンを形成するために使用されます。この材料は、光を照射すること(露光)でパターンを形成することがで...